东营集成电路布图设计如何申请知识产权
东营集成电路布图设计如何申请知识产权
周老师
集成电路指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者终产品。 它是微电子技术的核心，电子信息技术基础。广泛应用于计算机，通讯设备，家用电器等电子产品。具备集成性，整体性及工艺严格性。
取得
布图设计专有权，是指通过申请注册后，依法获得的利用集成电路设计布图实现布图设计价值得到商业利益的权利。
（一）集成电路布图设计权的主体
按照我国《集成电路布图设计保护条例》第3条的规定，中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计，依照本条例享有布图设计权；外国人创作的布图设计在中国境内投入商业利用的，依照本条例享有布图设计权；外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或共同参加国际条约的，依照本条例享有布图设计权。
（二）客体条件
集成电路布图设计具备性。
布图设计应当是作者依靠自己的脑力劳动完成的，设计是突破常规的贵的设计或者即使设计者使用常规设计但通过不同的组合方式体现出性时，都可以获得法律保护。
（三）方式和程序
目前，主要采取三种取得方式：自然取得，登记取得，使用与登记取得，大多数国家采取登记取得制。我国也采取登记制度。
取得的程序：
（1）申请：向国家知识产权行政部门提交申请文件；
（2）初审；
（3）登记并公告；
（4）对驳回申请的复审；
（5）登记的撤销。
（四）集成电路布图设计申请阶段需提交的材料：
（1）集成电路布图设计登记申请表。
（2）集成电路布图设计的复制件或者图样。
（3）集成电路布图设计已投入商业利用的，提交含有该集成电路布图设计的集成电路样品。 集成电路布图设计在申请日之前已投入商业利用的，申请登记时应当提交4件含有该集成电路布图设计的集成电路样品。
（4）国家知识产权局规定的其他材料。 [1]
内容及其行使
（一）集成电路布图设计专有权的内容
1、复制权
实际上是重新制作含有该布图设计的集成电路。
2、商业利用权
是指专有权人为商业目的而利用布图设计或含有布图设计的集成电路的权利。
但是布图设计权并不包括精神权利。
（二）布图设计权的行使
1、布图设计权的转让
布图设计权的转让，就是权利人将其全部权利转让给受 让人所有。根据我国《集成电路布图设计保护条例》的规定，转让布图设计权的，当事人应当订立书面合同，并向知识产权部门登记并公告。
2、布图设计权的许可
当事人应当订立书面合同。
保护
（一）保护期限
布图设计权的保护期限为10年，自布图设计登记申请之日或在世界任何地方投入商业使用之日计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受到保护。
（二）侵权行为
所谓布图设计的侵权，是指侵犯了布图设计人的权利，依法应当承担的法律责任。包括侵犯布图设计人的复制权和商业利用权。
（三）侵权责任及制止措施
1、侵权责任的形式
（1）民事责任
（2）行政责任
2、即发侵权的制止
限制
（一）合理使用或利用
1、为个人目的的复制
2、供教学研究而复制
（二）反向工程
是指对他人的部图设计进行分析、研究然后根据这种分析评价的结果创作出新的部图设计。（此行为不视为侵权）
（三）权利穷竭
是指集成电路部图设计权人或经其授权的人，将受保护的布图设计或含有该布图设计的半导体集成电路产品投入市场以后，对与该布图设计或该半导体集成电路产品有关的任何商业利用行为，不再享有权利。
（四）善意买主
善意买主法律给予豁免。
（五）强制许可
查看全部介绍
